| طراحی ساختاری بهینه کانال های دارای هدایت حرارتی بالا جهت خنک کاری قطعات الکترونیکی با در نظر گرفتن مقاومت تماسی |
| Paper ID : 1479-NICAME1402 |
| Authors: |
|
Fatemeh Jahansooz * دانشگاه تهران |
| Abstract: |
| طی سال های اخیر، با افزایش تولید قطعات الکترونیکی مختلف و ضرورت خنک نمودن آن‌ها به منظور افزایش طول عمر، لازم است که فرآیندهای انتقال گرما در این قطعات به صورت جامع‌تری بررسی شود. به منظور بهبود انتقال گرما و خنک کاری، نیازمند به بازنگری و بهبود روش های متداول و سنتی در فرآیند خنک کاری هستیم. یکی از روش های مدرن، استفاده از شاخه های ابررسانای حرارتی در قطعات دارای تولید حرارت داخلی است. به کارگیری شاخه های ابررسانای حرارتی در داخل قطعه، مقاومت تماسی بین شاخه های ابررسانای حرارتی و قطعه را ایجاد می کند. در بررسی های گذشته، از تأثیر مقاومت تماسی صرف نظر شده است. در این بررسی، قصد داریم میزان تأثیر مقاومت تماسی بر دمای بیشینه قطعه را بررسی کنیم و طراحی شاخه های ابررسانای حرارتی را با در نظر گرفتن مقاومت تماسی بهینه سازی کنیم و بهترین هندسه و پیکربندی را برای شاخه های ابررسانای حرارتی به شکل V پیدا کنیم. هدف از بهینه سازی، کاهش دمای بیشینه قطعه (نقاط داغ) است. در این بررسی، مسئله به صورت دو بعدی فرض شده و بعد سوم ثابت و به اندازه کافی طولانی در نظر گرفته شده است. مسئله با استفاده از نرم افزار MATLAB بررسی شده است و معادلات حاکم با استفاده از روش المان محدود بر روی شبکه تتراهدرال غیریکنواخت حل شده است. |
| Keywords: |
| طراحی ساختاری، ابررسانایی حرارتی، مقاومت تماسی |
| Status : Paper Accepted |
